催化劑評價裝置制冷加熱控溫系統(tǒng)

無錫冠亞冷熱一體機 

解決化學醫(yī)藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置， 

用以滿足間歇反應器溫度控制 

或持續(xù)不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。 

無錫冠亞冷熱一體機典型應用于：

高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制；

小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。  

　　催化劑評價裝置制冷加熱控溫系統(tǒng)反應釜操作溫度較高，通常化學反應需要在一定的溫度條件下才能進行，所以反應釜既承受壓力又承受溫度。獲得高溫的方法通常有以下幾種：

　　水加溫：要求溫度不高時可采用，其加熱系統(tǒng)有敞開式和密閉式兩種。

　　蒸汽加熱：加熱溫度在100℃以下時，可用一個大氣壓以下的蒸汽來加熱;100~180℃范圍內(nèi)，用飽和蒸汽;當溫度更高時，可采用高壓過熱蒸汽。

　　用其它介質(zhì)加熱：若工藝要求必須在高溫下操作或欲避免采用高壓的加熱系統(tǒng)時，可用其它介質(zhì)來代替水和蒸汽，如礦物油(275～300℃)、聯(lián)苯醚混合劑(沸點258℃)、熔鹽(140～540℃)、液態(tài)鉛(熔點327℃)等。

　　電加熱：將電阻絲纏繞在反應釜筒體的絕緣層上，或安裝在離反應釜若干距離的特設絕緣體上，因此，在電阻絲與小型反應釜體之間形成了不大的空間間隙。

催化劑評價裝置制冷加熱控溫系統(tǒng)反應釜操作壓力較高。釜內(nèi)的壓力是化學反應產(chǎn)生或由溫度升高而形成，壓力波動較大，有時操作不穩(wěn)定，突然的壓力升高可能超過正常壓力的幾倍，因此，大部分反應釜屬于受壓容器。