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加熱冷卻循環器-70℃ ~ 250℃

簡要描述:應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。加熱冷卻循環器-70℃ ~ 250℃

  • 產品型號:SUNDI-735WN
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2024-12-26
  • 訪  問  量:1400
詳情介紹
品牌LNEYA/無錫冠亞產地類別國產
應用領域環保,化工,生物產業,電子/電池,制藥/生物制藥

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無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

高壓反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統、蒸飽系統控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制



型號

SUNDI-125

SUNDI-125W

SUNDI-135

SUNDI-135W

SUNDI-155

SUNDI-155W

SUNDI-175

SUNDI-175W

SUNDI-1A10

SUNDI-1A10W

SUNDI-1A15

SUNDI-1A15W

介質溫度范圍

-10℃~+200℃

控制系統

前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器

溫控模式選擇

物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇

溫差控制

設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定

程序編輯

可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟

通信協議

MODBUS RTU 協議  RS 485接口

外接入溫度反饋

PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)

溫度反饋

設備導熱介質 溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度

導熱介質溫控精度

±0.5℃

反應物料溫控精度

±1℃

加熱功率 kW

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

制冷量 kW

200℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

20℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

-5℃

1.5

2.1

3.3

4.2

6

9

流量壓力 max

L/min bar

20

35

35

50

50

75

2

2

2

2

2

2.5

壓縮機

海立

艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機

膨脹閥

丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥

蒸發器

丹佛斯/高力板式換熱器

操作面板

7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄

安全防護

具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。

密閉循環系統

整個系統為全密閉系統,高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質。

制冷劑

R-404A/R507C

接口尺寸

G1/2

G3/4

G3/4

G1

G1

G1

水冷型 W

溫度 20度

600L/H

1.5bar~4bar

G3/8

800L/H

1.5bar~4bar

G1/2

1000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1200L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1600L/H

1.5bar~4bar

G3/4

2000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

外型尺寸(水)cm

45*65*120

50*85*130

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

外形尺寸 (風)cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

70*100*175

隔爆尺寸(風) cm

45*110*130

45*110*130

45*110*130

55*120*170

55*120*170

55*120*170

正壓防爆(水)cm

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

120*110*195

常規重量kg

115

165

185

235

280

300

電源 380V 50HZ

AC 220V 50HZ 3.6kW

5.6kW

7.5kW

10kW

13kW

20kW

選配風冷尺寸cm

/

50*68*145

50*68*145

50*68*145

/

/



加熱冷卻循環器-70℃ ~ 250℃

加熱冷卻循環器-70℃ ~ 250℃


  單一介質制冷加熱循環設備針對于各行業的制冷加熱控溫設備,那么,常用于哪些領域呢?有著怎么樣的應用呢?

  1、制藥行業:隨著制藥化工行業的不斷發展,制藥化工行業涉及到很多化學反應,對于這類儀器需求較高,無錫冠亞全密閉的單一介質制冷加熱循環設備溫度范圍可達-120~200度,滿足不少企業的需求。冠亞設備操作簡單,體積小,穩定性高,占地小,符合制藥化工行業的需求。

  2、干燥行業:在干燥行業中,需要通過各種外部溫度、濕度等物理形態通過干燥設備的攪拌操作達到預期的狀態。無錫冠亞單一介質制冷加熱循環設備進行加熱操作,單一介質制冷加熱循環設備加熱可達300度,可以通過不同的介質進行加熱,設備運行穩定高,操作簡單。

3、生物行業:生物工程中的生物反應器、萃取與離子交換設備、蒸發、結晶、蒸餾等需要進行制冷加熱控溫。這類反應過程中放熱反應比較多,需要進行冷卻,就需要冠亞的單一介質制冷加熱循環設備進行制冷加熱控溫,提供相應的冷源。LNEYA單一介質制冷加熱循環設備采用板式換熱器,降低導熱液的需求量,提高熱量利用,達到升溫降溫的目的。


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