應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程 加熱冷卻循環(huán)器-10℃～200℃tcu控制。加熱冷卻循環(huán)器-10℃～200℃。

主要應用在工業(yè)冷處理上，使金屬結構基體組織上產生的均勻、細微而彌散的炭化物析出。這種炭化物的析出現象將會給金屬的耐磨損性能和磨擦性能帶來顯著提高，硬度也會增加，并將直接提高磨損件的壽命。替代液氮的理想產品。可用于觸摸屏、顯示屏冷凍脫膠、拆卸。工業(yè)冷凍箱-80℃～60℃。

寬工作溫度范圍，同時具備加熱制冷功能，高低溫循環(huán)裝置-50℃～250℃冷熱一體機，整個液體循環(huán)是密閉的，帶有膨脹容器，膨脹容器和液體循環(huán)是絕熱的，并不參與液體循環(huán)，只是機械的連接，不管液體循環(huán)的溫度是高溫還是低溫膨脹容器中的介質低于60度。